Установка предназначена для высокоточного формирования мокрых перовскитных пленок на подложках 300х300мм. Оборудование выполнено на базе однопортальной системы с вакуумным закреплением подложки, прецизионной подачей раствора и автоматической калибровкой положения головки. Установка обеспечивает: равномерность кристаллизованной пленки не хуже ≤5% в диапазоне 400–600 нм краевая неравномерная зона - не более 5 мм на сторону Встроенный локальный чистый кожух обеспечивает уровень класс чистоты 1000 при внешней среде Class 10000, что особенно важно для предотвращения дефектов смачивания, пылевых включений и локальных утолщений пленки.